GBT 47906-2026 300mm硅片表面纳米形貌的评价方法

VIP免费
南来北往 2026-07-26 20 1.09MB 15 页 12星币
侵权投诉
中华人民共和国国家标准
ICS 77.040
CCS H 21
GB/T 47906—2026
300 mm 硅片表面纳米形貌的评价方法
Practice methods for nanotopography of 300 mm silicon wafer surface
2026⁃07⁃02 发布 2027⁃02⁃01 实施
国家市场监督管理总局
国家标准化管理委员会
发 布
GB/T 47906—2026
前 言
本文件按 照 GB/T 1.1—2020《标准化工 作导则　第 1部分：标准化文 件的结构 和起草规 则》的 规
定起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文 件由 全国 半 导体 设备 和材 料标 准化 技术 委员 会（SAC/TC 203）与全国半导体设备和材料标
准化技术委员会材料分技术委员会（SAC/TC 203/SC 2）共同提出并归口。
本文件起草单位：山东有研艾斯半导体材料有限公司、金瑞泓微电子（衢州）有限公司、西安奕斯伟
材料科技股份有限公司、杭州中欣晶圆半导体股份有限公司、上海晶盟硅材料有限公司、浙江晶越半导
体有限公司、上海超硅半导体股份有限公司、深圳中科飞测科技股份有限公司、郑州合晶硅材料有限公司、
江苏神州半导体科技股份有限公司、扬帆半导体材料（江苏）有限公司。
本文件主要起草人：朱晓彤、宁永铎、刘云霞、陈仁彬、张海英、张婉婉、徐新华、顾广安、高冰、陈猛、
马砚忠、钟佑生、朱培文、杨杰。
Ⅰ
摘要：

GBT 47906-2026《300mm硅片表面纳米形貌的评价方法》是针对300毫米（12英寸）硅片表面纳米级形貌进行标准化评估的核心技术规范。该标准旨在为半导体制造行业提供一套统一、可重复的测试与评定流程，重点涵盖表面粗糙度、波纹度以及纳米拓扑结构的量化参数与检测条件。通过明确光学干涉法、原子力显微镜等主流测量技术的操作要求与数据处理规则，本文件帮助晶圆厂、设备商及材料供应商在纳米尺度实现产品质量的精准控制，从而降低工艺缺陷、提高光刻工艺余量及芯片良率。适用于芯片制造过程中对硅片平整度与微观表

展开>> 收起<<
GBT 47906-2026 300mm硅片表面纳米形貌的评价方法.pdf

共15页,预览3页

还剩页未读， 继续阅读

声明：本文档系会员上传，若文档所含内容侵犯了您的版权或隐私，请立即通知，我们立即给予侵权申诉删除！

相关推荐

更多
立即下载
作者：南来北往 分类：中国标准 价格：12星币 属性：15 页 大小：1.09MB 格式：PDF 时间：2026-07-26

开通VIP享超值会员特权

  • 多端同步记录
  • 高速下载文档
  • 免费文档工具
  • 分享文档赚钱
  • 每日登录抽奖
  • 优质衍生服务

相关内容

更多

热门标签

ISO 混凝土 技术规范 检验 航空航天 不锈钢 消防 压力容器 铝合金 法兰
/ 15
评分 收藏
分享
立即下载 VIP免费下载
客服
关注